在半導體製程中，真空環境至關重要。它能有效減少氣體分子對材料的干擾，降低雜質的產生，確保晶片的品質與性能。此外，真空還能提升薄膜沉積的均勻性，進一步提高製程的穩定性與良率。因此，真空技術是半導體製造不可或缺的核心要素。